샘플 가스 공급 장치 및 방법[Apparatus for providing the sample gas and method thereof]
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최고관리자 0 Comments 1 Views 20-11-10 15:46 기계본문
- 기술 정보
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기술분야
반도체
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현재 권리자
삼성전자 주식회사
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Main IPC
H01L-021/02
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존속기간 만료예정일
2033-01-18
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출원번호
(출원일)10-2013-0006003
(2013-01-18)
(2013-01-18) -
등록번호
(등록일)10-2025574
(2019-09-20)
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기술분야
- 기술개발 목적
- - 샘플 가스의 압력 대역에 무관하게 가스 분석 장치로 샘플 가스를 공급할 수 있는 샘플 가스 공급 장치를 제공함
- 기술의 효과
- - 샘플 가스 공급 방법은 유입된 샘플 가스의 제1 압력을 측정하여, 상기 제1 압력을 기초로 제1 내지 제3 압력 대역 중 어느 하나를 결정하고, 상기 결정된 상기 제1 내지 제3 압력 대역 중 어느 하나에 따라, 제1 내지 제3 조절 밸브 중 어느 하나를 개방하고, 제1 내지 제3 플로우 라 인 중 어느 하나를 통해 배출된 샘플 가스의 제2 압력을 측정하고, 상기 제2 압력을 기초로 상 기 제1 또는 제2 플로우 라인으로 흐르는 상기 샘플 가스의 양을 조절하는 것을 포함함으로써, 샘플 가스의 압력 대역에 무관하게 가스 분석 장치로 샘플 가스를 공급할 수 있음
- 적용 산업분야
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*출처 : 삼성전자
반도체
- 시장규모 및 전망
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*출처 : WSTS(2020.12), IC Insights 및 수출입은행
반도체 시장은 2019년 2,269억 달러에서 연평균 7.6% 성장 하여 2025년 3,389억 달러의 규모로 전망됨