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진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법, 이를 이용한 센서 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 센서 소자

최고관리자　 0 Comments　 1 Views　 20-11-10 15:46　 기계

분야 : 기타 개발상태 9

진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법, 이를 이용한 센서 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 센서 소자

보유기관 및 연구자 : 박형호

특허정보
진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법, 이를 이용한 센서 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 센서 소자 (No : 10-2016-0095038)
거래조건 :

상담신청 기술문의

TRL09
사업화
- 본격적인 양산 및 사업화 단계
TRL08
시작품 인증/
표준화
- 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
  - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
TRL07
Pilot 단계 시작품
신뢰성 평가
- 시작품의 신뢰성 평가
- 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
TRL06
Pilot 단계 시작품
성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
- 시작품 성능평가
TRL05
시제품 제작/
성능평가
- 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
TRL04
연구실 규모의
부품/시스템 성능평가
- 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
- 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
TRL03
연구실 규모의
성능 검증
- 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
- 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
- 모델링/설계기술 확보
TRL02
실용 목적의 아이디어/
특허 등 개념 정립
- 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
TRL01
기초 이론/
실험
- 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계

기술개요: 나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착 조건을설정하여진공증착에의한나노구조체패턴을형성방법, 이를이용한센서소자의 제조방법및이에의해제조된센서소자

주요 기술내용: • 종래기술의 문제점

종래의포토리소그래피 또는나노임프린트 리소그래피 등을포함하는공정의경우,
나노패턴의 크기및밀도에대응되는 마스크(또는마스크층) 또는임프린트스탬를
제작하여야 하므로 나노패턴의제어가용이하지않고,시드층증착및제거공정이필요함

• 본 기술의 해결방안

– 나노구조체의 최소 임계반지름을나 만족하는 진공증착 조건을 설정함

시장 및 기술동향: - 나노기술시장의가치는2020년에14억9300만달러이고2027년까지29억6310만달러에이를
전망이며, 2020년-2027년동안연평균복합성장률(CAGR) 11.2%로성장할전망
- 마라나노텍이 개발한 디지털 코로나19 진단 기기는 나노웰센서 어레이(Nano Well Array)
구조를 적용해 민감도, 특이도가 100배 이상, 95% 이상 높은 진단 정확도를 확보하고 세계
최초 나노센서 기술을 적용함
- 한국재료연구원은 항균 효과를 가진 구리 소재를 나노 기술을 기반으로 필터와 방역
마스크에 얇게 코팅한 기술을 개발함

특장점