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스트레인 보상층을 포함한 기판 재활용 구조, 구조 생성 방법 및 소자 제작 방법

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최고관리자  0 Comments  1 Views  20-11-10 15:46  기계

본문

분야 : 기타 개발상태 9
스트레인 보상층을 포함한 기판 재활용 구조, 구조 생성 방법 및 소자 제작 방법
보유기관 및 연구자 : 전동환
  • 특허정보

    스트레인 보상층을 포함한 기판 재활용 구조, 구조 생성 방법 및 소자 제작 방법 (No : 10-2013-0169385)

  • 거래조건 :

기술완성도

  • TRL09

    사업화

    • 본격적인 양산 및 사업화 단계
  • TRL08

    시작품 인증/
    표준화

    • 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
      - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
  • TRL07

    Pilot 단계 시작품
    신뢰성 평가

    • 시작품의 신뢰성 평가
    • 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
  • TRL06

    Pilot 단계 시작품
    성능 평가

    • 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
    • 시작품 성능평가
  • TRL05

    시제품 제작/
    성능평가

    • 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
    • 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
  • TRL04

    연구실 규모의
    부품/시스템 성능평가

    • 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
    • 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
  • TRL03

    연구실 규모의
    성능 검증

    • 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
    • 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
    • 모델링/설계기술 확보
  • TRL02

    실용 목적의 아이디어/
    특허 등 개념 정립

    • 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
  • TRL01

    기초 이론/
    실험

    • 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계
KEYWORD
스트레인, 스트레스, 격자상수, 보상층, 결함 감소
기술개요
스트레인이반대인보상층을추가로구성하여소자의두께를높일수있는스트레인 보상층을포함한기판재활용구조, 구조생성방법및소자제작방법
주요 기술내용
• 종래기술의 문제점

일반적인기판재활용방법: 희생층과기판의격자상수 차이로인해스트레인 발생
→ 스트레인으로 인해스트레스 발생→ 스트레스는 입자를성장시키면서 증대됨
⇒ 임계두께이상성장시키면 스트레스가 유발한결함이생김

• 본 기술의 해결방안

시장 및 기술동향
- 올해국내반도체기판시장은전년비19% 성장한5조원으로예상됨. 지난해(2021년)도이
시장은전년비27% 성장한바있음.
- 반도체 패키징 재료시장은 2019년176억달러규모에서 2024년208억달러까지 성장하며
3.4%의연평균 성장률(CAGR)을 기록할 것으로 전망됨
- 고주파 영역인 28Ghz 5G스마트폰 시장이 개화될수록반도체 기판 시장은 큰폭으로 성장할
것으로 전망됨
기술활용 분야
✓ 기판분야–메모리반도체와PC,데이터센터,게임기용반도체기판등

게이밍 디바이스

기술활용 분야
✓ 반도체분야–PC,인공지능(AI),5G,스마트폰,소형가전기기등

인공지능(AI)

기술활용 분야
✓ 화합물 반도체 기반-박막형 태양전지, 초소형 디스플레이, microLED, detector 등

SAMSUNG 社 Galaxy Note 20 Ultra

특장점
소자를손쉽게제거可
희생층을두텁게성장시킬수있게 함으로써, 소자를손쉽게제거할수있는 효과가있음
결함최소화
스트레인을충분히보상함으로써, 소자 증착시소자에생기는결함을최소화함
우수기술 Gyeonggi Technology Market